【PS3】PLAYSTATION3� ..
321:なまえをいれてください
08/02/05 20:16:28 P60R8mco
>>318
米IBM Corp.と米Sony Computer Entertainment of America社は，2008年2月3日から米国サンフランシスコで開催中の
半導体関連の国際学会「ISSCC 2008」において，45nm版のCellの設計について発表した。IBM社が開発した
レイアウト支援ツール「MASH」や，同じく内製のDFM向け設計チェック・ツールなどを活用して，Cellの設計を65nm版から
45nm版に移行する作業の多くを自動化したという。
まずフリップ・フロップなど基本的なセルはMASHによって半自動的に，45nm SOI製造技術向けにシュリンクした。さらに
一部の設計ルール違反をMASHによって修正し，それ以外の設計ルール違反を設計者が手動で修正したという。これにより
65nm版で174.6mm2だったチップ面積を34％削減し，115.46mm2にした。
このほか消費電力については，
(1)ダイナミック回路をできるだけCMOSのスタティック回路に置き換える，
(2)しきい値電圧の低い高速なトランジスタの利用を減らす（PMOSで従来の2.4％から0.5％に，
NMOSで従来の2.9％から0.7％にそれぞれ削減）などの工夫により，65nm版と比べて約40％低減させた。
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