ペルオキソ一硫酸
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この項目では、過硫酸について説明しています。化合物群としての過硫酸については「過硫酸類」をご覧ください。

過硫酸

別名ペルオキソ一硫酸
組成式H2SO5
式量114.04 g/mol
形状白色固体
CAS登録番号[7722-86-3]
密度2.29 g/cm3,
融点45 ℃

過硫酸(かりゅうさん)は硫黄オキソ酸のひとつ。ペルオキソ一硫酸、カロ酸 (Caro's acid) とも呼ばれる。化学式は H2SO5。強い酸化剤である。CAS登録番号は [7722-86-3]。ドイツの化学者、ハインリッヒ・カロ(de:Heinrich Caro)により最初に報告された。


目次

1 調製方法

2 用途

3 塩

4 関連項目

5 参考文献


調製方法

硫酸またはクロロ硫酸に濃過酸化水素を作用させる。ペルオキシ二硫酸を加水分解したり、硫酸と水を電気化学的に酸化して得る[1]

実験室的には、硫酸に過硫酸アンモニウムを加えて調製される[2]
用途

過硫酸は洗浄剤として用いられる。半導体回路製造過程で、レジスト除去剤としての用途が検討されている[3]

過硫酸の塩は、酸素系の漂白剤、洗浄剤として用いられる。

過硫酸水素カリウムと硫酸水素カリウム、硫酸カリウムから成る複塩 (2KHSO5?KHSO4?K2SO4) は「OXONE(オキソン)」という商標名で市販され、有機合成などで酸化剤として用いられる。
関連項目

亜硫酸

硫酸

ペルオキソ二硫酸

参考文献^ コットン、ウイルキンソン、『無機化学』、原書4版、培風館
^ 例: Wang, Y.; Zhu, S. Tetrahedron Lett. 2001, 42, 5741-5744. DOI: ⇒10.1016/S0040-4039(01)01106-6
^東芝など,硫酸の使用量を70%削減するレジスト除去技術を開発 - 日経BPnet










水素の化合物
二元化合物

CH4

HAt

HBr

HCl

HF

HI

HN3

H2O

H2O2

H2O3

H2S

H2S2

H2Se

NH3

多元化合物

H[AuCl4]

HBF4

HCN

H2CS3

H[CuCl2]

H2[CuCl4]

HNC

H2[PtCl4]

H2[PtCl6]

HSCN

H2SiF6

HSNC

オキソ酸

H3AsO4

H5As3O10

HBiO3

HBO2

H3BO3

HBrO

HBrO2

HBrO3

HBrO4

HClO

HClO2

HClO3

HClO4

HClO5

H2CrO4

H2Cr2O7

H2CO3

H2CO4

HFO

HIO

HIO3

HIO4

H5IO6

HMnO4

H2MoO4

HNCO

HNO2

HNO3

HNO4

H2N2O2

HOCN

HCNO

HPH2O2

H2PHO3

H3PO3

H3PO4

H3PO5

H4P2O7

H4P2O8

H5P3O10

HReO4

HRuO4

H2RuO4

H2SeO3

H2SeO4

H2SeO5

H2SiO3

H4SiO4

H2Si2O5

H2SO4

H2SO5

H2S2O3

H2S2O4

H2S2O6

H2S2O7

H2S2O8

HTcO4

H2TeO3

H6TeO6

HVO3

H3VO4

H4V2O7

H2WO4

H2XeO4












硫黄の化合物
二元化合物SBr2 ・ SBr4 ・ S2Br2 ・ SCl2 ・ SCl4 ・ S2Cl2 ・ SF2 ・ SF4 ・ SF6 ・ S2F2 ・ S2F4 ・ S2F10 ・ SO ・ SO2 ・ SO3 ・ S2O


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